在研磨抛光工艺中有很超精密的研磨抛光工艺，下面小编简单的介绍两个抛光研磨工艺，分别是液面研磨抛光各水合抛光。
1.液面研磨抛光其原理是：研抛时工件与抛光盘之间流体压力会形成间隙，利用其化学反应所具有的腐蚀性的液体运动来进行研抛，其研磨方法的特点就是：不用使用磨料，这同时也是一种化学腐蚀加工方法。如果其中的腐蚀液成分是以甲醇、乙三醇与溴为主的混合液，可以用来加工基片表面。
2.水合研磨抛光其原理是：两个物体产生相对摩擦，在接触区产生的高温高压使工件表面上的分子与原子呈现活性化，现利用过热的水蒸汽分子与水作用其表面，从而在基面形成水合化层。利用工件临界面上生成水合反应，工件表面借助过热的水蒸汽将其表面的水合化层分离，去除，一般去除厚度量为零点几个纳米；从而获得无划痕，平滑光泽且无变形的洁净面。其最大的特点是：不使用磨料和加工液，而使用的加工装置与目前的陶瓷抛光机使用的相似，只是其加工装置一般是用于喷液，而它则是水蒸汽装置；水合研磨抛光一般都在水蒸汽环境中进行。适合加工一些光学元件的超精密加工。
